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                                        EDI的化學清洗
                                        發布時間 : 2019-03-12 15:17 瀏覽量 : 124

                                        EDI的化學清洗:

                                        化學清洗的前提條件:

                                        (1)水溫度和流量不變的情況下淡水壓差增加30%;

                                        (2)水溫度和流量不變的情況下濃水壓差增加30%;

                                        (3)水溫度和流量及進水電導率不變的情況下產水電阻率下降;

                                        (4)水溫度不變的情況下模塊電阻增加20%;

                                        (5)產水量不變的情況下脫鹽率明顯下降。

                                        清洗之前,需要先分析污堵類型:對有機物污染較嚴重的情況,需先酸洗后再堿洗,且應延長堿洗時間,必要時,堿洗后再進行一次簡單酸洗;對無機鹽結垢較嚴重的情況,需延長酸洗時間,酸洗后再進行簡單的堿洗或水洗;一般情況,酸洗清洗無機鹽垢,堿洗清洗有機物和微生物。

                                        每類清洗后,務必用RO出水沖洗干凈,才可進行下一類清洗,禁止酸、堿在系統里混合;循環清洗EDI系統時,進水壓力務必保證≤0.4Mpa。

                                        較高的藥液溫度有利于化學清洗,一般可用清洗水箱電加熱,對酸洗可加熱至30~35℃,對堿洗可加熱至35~40℃,但藥液溫度不可太高,太高的溫度會引起EDI膜元件降解。

                                        較嚴重的污堵還可以采用浸泡的措施,即循環清洗2h后,(或更長時間,最好清洗至酸、堿濃度不再變化時),停清洗泵,使EDI膜浸泡2~4h,然后再循環15~30min。若一次清洗不理想,需分析原因,必要時可以再進行一次清洗。

                                        藥洗完成后進行清水沖洗,可沖洗掉尚未溶解的物質與不溶性物質。日常操作時必須測量和記錄膜元件的壓力及壓差變化,隨著元件內進水通道被堵塞,壓差將增加。如果進水溫度降低,元件產水量也會下降,這是正?,F象而非膜的污染所造成的。通常情況下,壓力控制失?;蚧厥章实脑黾訉е庐a水量的下降或鹽透過率的增加,此時膜元件一般不需要清洗。


                                        清洗過程及藥品配置

                                        1、鹽酸溶液(2%)循環清洗30min; 

                                        2、水沖洗20~30min;

                                        3、氯化鈉(5%)清洗30min;

                                        4、水沖洗20~30min;

                                        5、氯化鈉(5%)+氫氧化鈉(1%)循環清洗30min; 

                                        6、水沖洗20~30min;

                                        7、清洗結束后電再生至產水合格。

                                        電子行業用純水設備.JPG

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                                              軟化水處理設備、工業循環水處理設備;

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